旺宏電子總部大樓

本案位於新竹科學工業園區,基地面積共約8.2公頃,除分期興建以生產半導體記憶體為主之廠房與其附屬設施外,業主並計畫興建此能代表企業高科技意象之總部大樓、研發中心及訓練休憩設施,以滿足公司未來發展擴充之需要。本期計畫興建地下四層、地上十二層之總部大樓及地上七層之研發中心,總樓地板面積共約67,000平方公尺,工程造價約1,200,000,000元。於1998年5月完工。

本案基地呈不規則形狀,東南側為進出之唯一道路,東北角臨一約5公頃之公園預定地,西北側有斷層擾動帶通過,在諸多限制條件下,如何有效使用土地,創造空間,營造出業主對廠區校園化之期望,為本設計之重大挑戰。解決方式為將總部大樓正面以弧形量體約略平行面前道路,門廳及其上方各層之會議接待空間,以圓型突顯於正面,塑造企業標識之效果,而將一、二樓為員工餐廳之七層研發中心面向公園綠地,並與簡報中心及現有之生產廠房創造出的中庭廣場,提供員工一開放、交流的戶外空間。主要公共機能如會議廳、簡報中心、展示廳、員工餐廳及技術中心/二廠出入口皆環繞此一中庭廣場。基地西北側未來將興建員工訓練休憩中心,含室內球場、多功能大廳、國際會議廳、大小會議室、游泳池、健身房及招待所等設施,結合景觀水池,提供一流之訓練環境予員工及眷屬使用。

類別: 研究發展、製造/生產、辦公大樓

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