本基地位在林口特定區華亞科技園區內，東臨文化二路，北臨華亞二路。廠區內一期(地下二層及地上六層)及二期(地下二層及地上一層)已開發完成。為因應業主(神達電腦股份有限公司)近年來的業務發展需求，計畫在現有二期基地上，規劃興建地上10 層作業廠房，以提供足夠生產作業之空間，並配合提供休息、餐飲及停車空間等必需之場所。

中庭戶外露臺及靠近入口廣場側的14m深退縮景觀露臺，除了創造室內空間與室外景觀交織錯落的豐富性外，其退縮的量體更增強本案與既有建物的對話。建築量體以雕塑的手法呈現，將主要道路(文化二路)側八樓以上部分挖空，並設置退縮景觀露臺，藉此呼應建物內部的中庭景觀露臺。

外觀設計承接既有一期建物的立面語彙，以綠色水平向窗帶及白色背牆呈現，並將既有立面色彩與具高科技意象的淺灰色鋁板搭配，一系列水平窗帶流暢環繞整體建物，塑造建築群體意象。