本案座落於「臺北內湖科技園區」，受航高限制轉接面高距比1:7範圍內，面對建物高度條件嚴峻之困境。最大挑戰為如何充分利用容積，讓土地具備應有開發強度，同時創造符合都市風貌期待之建築物。並具備以下設計特點:

1. 使用地下一層(B1F)容積，並以挑空採創造 優質B1F空間
2. 量體配置呼應都市紋理(上部量體出挑平行街道，創造商業識別)
3. 增加地面層開放空間
4. 屋頂綠化減少建物得熱
5. 留設連續(複層式)景觀綠帶

本案建物量體分兩大部分，『鑽石』及『戒台』量體，上部『鑽石』量體出挑旋轉平行街道，創造最大商業識別，『鑽石』量體呼應都市角地，『戒台』量體採斜躺式立面設計，讓建物底層有足夠退縮空間。

將建築量體盡量向南側配置，同時將服務核南側集中配置，創造北側面臨道路之最廣視野。辦公室主入口 從12M 瑞湖街進入。汽機車採分道設計，並配置於10M舊宗路，且遠離角地空間，以減少交通衝擊。鄰街面退縮4M帶狀開放空間並植栽綠化，與B1留設北面之戶外挑空採光區域相互呼應，創造複層式開放空間。

立面(外殼)反應都市紋理&物環座向:北面，採(玻璃)帷幕牆系統，創造明亮通透室內空間及提供較佳都市景觀。南面，集中配置服務核及陽台南側，獲得較佳遮陽效果。頂面，屋頂綠化降低建築物得熱。