本案原為園區某公司所興建之廠房，於開發施作地下基礎工程後放棄，轉由本案三家業主共同承接。本所受三家業主委託重新調整原有基礎，並進一步規劃設計。

基地北側為開放綠地滯洪池，東臨光群科技，南靠台積電十二廠，西側為天下電子預定地。位居交通樞紐重要位置，且面對園區出口，為往來車流之明顯地標物。

本案設計為三棟建築物分屬三家獨立業主，各自局部表現建築特色，卻保有共同整體風格。一樓以開放聯合餐廳連接整合各棟，並將廣場入口向上提昇至二樓。主體建築群西南側，圍塑出東北向二樓開放休憩、私密之前庭空間廣場。各棟主入口由北向車道上廣場進入，廣場亦有開闊親切力之階梯連接整體街廓。建築群面對廣場及園區出口之立面外觀，採透明暖色系玻璃帷幕牆，塑造出建築物在白天及夜間燈光下之視覺美感及環境和諧。南北側停車場出入口提昇至二樓高度，不僅可擴充停車空間，亦有助於提昇週邊交通品質，保持車流順暢。