本案主要為研發、生產及行銷半導體產業與資訊電子業的自動測試設備之廠辦大樓，分兩期興建，完工後將作為公司企業總部使用。

量體設計上為滿足分期開發需求，規劃成口字型之合院配置，南北向之北側高樓層作為廠房及辦公空間使用，南側辦公樓為未來二期工程。東西向低樓層規劃為門廳及會議室等公共空間，作為連通南北兩棟建築之用，並利用部份挑高，營造入口意象。建築物圍塑成之中庭空間，供員工休憩使用，並延伸至地下層，與員工餐廳的戶外空間串聯。景觀規劃以植物多層次設計，結合水幕營造出「地只數畝，而有迂迴不盡之致，居雖近塵，而有雲水相忘之樂」。

立面規劃上為滿足業主預期使用五十年的期待，以簡潔線條分割，配合深色天然石材，Low-E複層玻璃及局部退縮所產生之俐落光影，釋放於立面上，勾勒出極簡的建築語彙，並傳遞精緻而有效率之企業文化。